中芯聯席執行長梁孟松指出,新製程工藝 N+1 做為 14 奈米的後繼者,性能提高了近 20%,且功耗降低了 57%,邏輯面積更縮小近 63%,電晶體密度將會超過兩倍。這也是被輿論認為是 7 奈米製程不僅如此,中芯還宣稱正在開發加強版製程 N+2。
其實中芯一直並未真正表態是否跳過 10 奈米製程,只不過梁孟松提到了 N+1 製程在功耗及穩定性上跟 7 奈米工藝非常相似,所以被認為是 7 奈米製程,但實際上,相較於其他大廠的 7 奈米的性能應還是較為落後,後續要繼續觀察 N+2 的表現。
目前如台積電在 7 奈米節點發展了 3 種製程,預期中芯應該也是一樣,不過在缺乏 EUV 的幫助下,如何進一步滿足市場對高性能的需求,仍是相當大的挑戰。此次新製程不直接以節點命名,或許也是策略的一環。但其實最引起關注的是,中芯表示這兩種製程都不需要使用 EUV 光刻機就能完成。
14奈米晶圓製造將是紅塵一片,步LCD、太陽能的後.....